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日本学術会議、日本化学会、日本工学アカデミーおよび日本学術協力財団の共同主催による第5回界面シンポジウムは、平成10年10月20日日本学術会議講堂で開催された。今回は、新素材・新物質創製のための表面・界面を利用した新しい物質合成とプロセス開発が進んでいる現状にかんがみ、「水と新素材創出」の副題のもとに7件の講演が行われ、それぞれの領域における先端的成果を中心に現状と将来の発展、課題について討議された。プログラムに沿って午前の部は3件の講演が行われた。

午後の部の冒頭に日本学術会議を代表して大橋秀雄第5部長が挨拶された。学術会議の役割について、わが国の科学技術の政策提言ならびに学会との連絡機能を紹介され、会員の選出方法の歴史的変遷とその得失について説明された。将来の新しい組織体制のために改革の決意を述べられた。

次いで、午後の部の4件の講演が行われた。

シンポジウムの終わりにあたり、相澤益男実行副委員長(東京工業大学教授)は、シンポジウムの意義と界面科学発展のための支援と期待を、最後に参加者への謝辞を述べられ幕を閉じた。講演終了後、はあといん乃木坂において研究交流と親睦を兼ね、懇親会が行われた。

今回のシンポジウムは、時流に則したテーマに関心が持たれ、主に企業から過去最高の約190名の参加者があった。活発な討論が行われ、大きな盛り上がりをみせた。日本工学アカデミー会長永野健氏が列席された。本シンポジウムが、わが国の界面科学技術の今後の発展に少なからず寄与することができた。

 

 

 

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