1．共催者　日本放射線化学会

2．開催日時　平成8年9月18日（水）　10：00〜17：00

3．開催会場　東京都・東京大学山上会館

4．入場者数　50人

5．プログラム

高分子材料中の構造欠陥と光伝導度

関　修平　（大阪大）

イオン注入の半導体への応用

村上　隆志　（三菱電機(株)）

放射線照射による半導体素子の特性制御

望月　康弘　（(株)日立製作所）

化学増幅型レジストの新展開

中村　二朗　（NTT）

イオン照射による多孔膜の開発

大道　英樹　（原子力研究所）

電子線を利用した高耐熱性セラミックの繊維の開発

瀬口　忠雄　（原子力研究所）

グラフト重合による分離機能材料の開発

須郷　高信　（原子力研究所）

電子線を用いた減菌プロセスの現状と展望

山瀬　豊　（住友重機械工業(株)）

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